Plaques de quartz percées avec précision dans les qualités JGS1/JGS2/JGS3 pour les applications semi-conductrices. Comprend une pureté SiO₂ de 99,99 %, une température de fonctionnement de 1 100 ℃ et des services de poinçonnage/découpe personnalisés. Disponible en silice fondue transparente avec des échantillons gratuits et un faible MOQ.
Tube en verre de quartz haute température avec une pureté SiO₂ de 99,99 %, température de fonctionnement jusqu'à 1 100 ℃, plage OD 10-10 000 mm. Idéal pour les applications de semi-conducteurs, de laboratoire et de fours industriels. Découpe/poinçonnage personnalisé disponible avec des échantillons gratuits.
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Plaques de quartz de silice fondues personnalisées avec une pureté de 99,99 %, une température de fonctionnement de 1 100 °C, une transmission de la lumière de 92 % et une dureté Morse 6,5. Disponible dans différentes formes, tailles et finitions de surface pour les applications semi-conductrices, optiques et industrielles.
Bécher en quartz transparent résistant aux hautes températures 1200 ℃ et à la corrosion pour équipement de laboratoire. Comprend une teneur en SiO₂ de 99,99 %, un point de fusion de 1732 ℃, une température de fonctionnement de 1 100 ℃ et une dureté de 6,6. Idéal pour la recherche en laboratoire, les processus de semi-conducteurs et les applications d'enseignement universitaire.
Tube en verre de quartz fondu de haute pureté avec une teneur en SiO₂ de 99,99 %, une température de fonctionnement jusqu'à 1 100 ℃ et un point de fusion de 1 732 ℃. Présente une résistance à la corrosion, une transparence et des connexions à brides pour les applications de semi-conducteurs et de fours à haute température. Échantillons gratuits disponibles.
Plaque de verre de quartz fondu poli transparent résistant aux hautes températures avec une teneur en SiO₂ de 99,99 %, une température de fonctionnement jusqu'à 1 100 ℃ et un point de fusion de 1 732 ℃. Fabrication sur mesure avec services de poinçonnage/découpe et échantillons gratuits disponibles pour les applications semi-conductrices et optiques.
Tube à essai en quartz à haute transmission de la lumière avec une teneur en SiO₂ de 99,99 %, température de fonctionnement jusqu'à 1 100 ℃, point de ramollissement 1630 ℃. Idéal pour les fours à semi-conducteurs, à haute température et les réacteurs à quartz de laboratoire. Prend en charge les échantillons gratuits et le traitement personnalisé.
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