Plaques de silice fondue de haute pureté avec 99,99 % de SiO2, > 92 % de transmission de la lumière, point de fusion de 1 732 ℃ et température de fonctionnement de 1 150 ℃. Tailles personnalisées (diamètre 1-800 mm, épaisseur 0,2-100 mm) avec options de poinçonnage/découpe. Normes JGS, résistantes à la corrosion et durables à haute température pour les applications semi-conductrices, laser et optiques.
Tube spiralé en verre de quartz personnalisé avec une pureté SIO2 > 99,99 %, une température de fonctionnement jusqu'à 1 100 ℃, une transmission de la lumière > 92 % et sans ozone pour une utilisation en laboratoire. Présente une excellente stabilité aux chocs thermiques, une résistance aux acides/alcalis et aucune bulle d’air.
Tubes de quartz personnalisés avec une pureté de SiO2 de 99,99 %, résistent à un choc thermique de 1 200 °C. Présente un point de ramollissement de 1730 ℃, une excellente résistance aux acides et des certifications CE/RoHS/SGS. Disponible dans des tailles personnalisées pour les applications chimiques.
Chemical Reactor High Quality Quartz Tube Reactor Professional Quartz Glass Reactor Manufacturer We are a manufacturer of UV Quartz Photocatalytic Reactor Glass Reactor Lab UV Quartz Photocatalytic Reactor Glass Reactor Lab Capacity design: Accept customized according to your drawing and capacity. ...
Tubes en verre de quartz de haute pureté à 99,99 % avec des diamètres personnalisés de 1 à 1 000 mm. Comprend un point de fusion de 1732 ℃, une température de fonctionnement de 1 100 ℃ et des services de coupe. Idéal pour les semi-conducteurs, les fours à haute température et les applications de laboratoire. Échantillons gratuits disponibles.
OEM/ODM Capability High Purity Clear Quartz Tube With Flange For Laboratory Vacuum Furnace ISO 9001 Product Overview Customized High Temperature Resistant 1200 Fused Silica Quartz Test Tube with 1100℃ Working Temperature and 99.99% SiO₂ Content Product Specifications Brand Shengfanquartz Product ...
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
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