| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Nom de produit | glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | 99,99% |
| Transmittance légère | 92% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | 99,99% |
| Transmittance légère | 92% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Nom de produit | Glace légère UV-C |
|---|---|
| Matériel | SiO2 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1200℃ |
| Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.999% |
| Densité | 2,2 (g/cm3) |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | morse 6,5 |
| Nom de quartz | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | 99,99% |
| Transmittance légère | 92% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Nom | Plat adapté aux besoins du client de haute qualité fondu en verre de quartz de glace |
|---|---|
| Taper | Plat clair de quartz |
| Application | Semi-conducteur, optique |
| épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Carré |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Punching, Cutting |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
