| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Poinçonnage, découpe, polissage |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | morse 6,5 |
| Temparature fonctionnant | 1150℃ |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2 |
| Dureté | morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçon, polissant |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Nom | Tube de verre de quartz |
|---|---|
| Caractéristique | Transmittance légère élevée |
| Utilisation | Instrument optique |
| Transmittance légère | >92% |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Temparature fonctionnant | 1150℃ |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Punching, Cutting |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Nom de Prodcut | Glace de quartz |
|---|---|
| Transmittance légère | >92% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Dureté | Morse 6,5 |
