| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Transmittance légère | >92% |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |