Nom de produit | Usinage en verre de précision |
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Matériel | SiO2 |
Dureté | morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1200℃ |
Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
Nom | verre de quartz |
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Matériel | SIO2>99.999% |
Transmittance légère | >92% |
Dureté | morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Nom de produit | Usinage en verre de précision |
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Matériel | SiO2 |
Hardness | Morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
Nom | Disque en verre de quartz |
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Transmittance légère | >92% |
densité | 2.2g/cm3 |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Dureté | Morse 6,5 |
Nom de produit | plat de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | Morse 6,5 |
Temparature fonctionnant | 1150℃ |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2 |
Dureté | morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
Nom de produit | glace de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Hardness | Morse 6,5 |
Temparature fonctionnant | 1150℃ |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2 |
Temparature fonctionnant | 1200℃ |
Point de fonte | 1850℃ |
Forme | Place/rond/toute forme |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |